光學溶氧數位電極 VisiFerm
光學溶氧數位電極 VisiFerm
- 測量原理: 光學法
- 本體材質: Stainless Steel 1.4435
- 測量範圍: 4ppb ~ 25ppm
- 耐 溫: -20~140 ℃
- 耐 壓: -1~12 bar (25 ℃時)
- 光學模組: H0 / H2 / H3 / H4
- 長 度: 120 / 160 / 215 / 325 / 425 mm
- 直 徑: 12 mm
- 連 接 頭: VP8
- 適 用: 發酵裝置、製藥業、高溫水樣
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- 測量原理: 光學法
- 本體材質: Stainless Steel 1.4435
- 測量範圍: 4ppb ~ 25ppm
- 耐 溫: -20~140 ℃
- 耐 壓: -1~12 bar (25 ℃時)
- 光學模組: H0 / H2 / H3 / H4
- 長 度: 120 / 160 / 215 / 325 / 425 mm
- 直 徑: 12 mm
- 連 接 頭: VP8
- 適 用: 發酵裝置、製藥業、高溫水樣
產品說明
產品特色
- 光學原理具更高的穩定度與反應時間,以及較簡易的維護保養。
- 符合FDA相關標準,提高製程安全性。
- 內置智慧型電極管理系統(ISM),可將所有系統的訊息,校準數據和損耗訊息都存儲在電極內。
- 適用中小型發酵槽或製程管路中溶氧值測量。
- 可蒸氣滅菌或CIP 原地滅菌。
配件
- 電極本體
- 說明書








